半導体業界に衝撃が走っています。世界的な半導体大手であるアメリカのマイクロン・テクノロジー社が、主力拠点である広島工場（広島県東広島市）に建設した新しい製造棟の完成式典を2019年6月11日に執り行い、その全貌が報道陣に公開されました。この新しい製造棟は、次世代DRAMの生産体制を強化し、世界シェア首位を誇る韓国のサムスン電子社を猛追するための重要な布石となるでしょう。マイクロン社が、半導体市場の競争を一段と激化させる決意を示した形だと言えます。
新製造棟の注目すべきポイントは、製造装置が配置されるクリーンルームの面積が、既存施設と比べて約10パーセントも拡大した点です。クリーンルームとは、空気中の微細な塵やゴミが極限まで除去された空間のことで、高性能な半導体を製造するためには欠かせません。今回、3階に設けられたクリーンルームは約7,000平方メートルもの広さを誇ります。この増床分は、特に多くの製造装置が必要となる次世代のDRAM生産に充てられる計画です。基板となるシリコンウエハーの投入枚数を増やすことなく、生産能力を向上させる工夫として、天井を行き交う搬送装置を二段重ねにするという新しい設計が採用され、搬送効率の大幅な向上が見込まれます。
ここでマイクロン社が生産を目指すのが「1Z世代」と呼ばれる次世代のDRAMです。DRAMとは、Dynamic Random Access Memoryの略で、パソコンやスマートフォンなどの電子機器が処理を行う際に一時的にデータを記憶しておくための半導体のことを指し、その世代交代は性能向上に直結します。マイクロン社は、この「1Z世代」DRAMの量産を2019年中に広島工場で開始する計画を打ち出しました。この技術革新は、将来的にデータセンターやAI（人工知能）技術の進化を支える重要な要素となるでしょう。
マイクロン社は、今回の新製造棟の完成だけでなく、広島工場への長期的な投資を継続する方針を明らかにしています。具体的な完了時期は未定ながら、すでに敷地内には別の製造棟の建設も進行中で、今後数年間で数十億ドル規模に上る巨額の投資を見込んでいます。また、将来の技術革新を支える人材確保にも注力しており、今後3年間で新卒の技術者を500人も増員する計画も示しました。この動きは、日本国内の半導体技術者の育成と雇用創出にも大きく貢献するに違いありません。
現在の世界の半導体市場は、一時的に需要が落ち着く「調整局面」にあるとの見方もあります。しかし、マイクロン社のサンジェイ・メロートラ最高経営責任者（CEO）は、中長期的な市場拡大に強い期待を寄せており、「自動車向け市場は4年で2倍以上に拡大する」との見通しを示しました。IoT（モノのインターネット）や自動運転技術の発展を考えれば、高性能なDRAMの需要は今後爆発的に増加することは確実でしょう。私の意見としては、マイクロン社のこの積極的な設備投資と技術開発への取り組みは、将来のデジタル社会を支える基盤づくりとして極めて賢明な判断だと感じます。
このマイクロン社の発表は、SNSでも大きな反響を呼んでいます。「広島が世界のハイテクを牽引する拠点になるのは嬉しい」「サムスンを追い詰める技術に期待したい」「日本の半導体産業の活性化にもつながるニュースだ」といった、期待感を示すコメントが多く見受けられました。特に地元である広島県の湯崎英彦知事が「広島から世界のデジタル化に貢献できることは意義深い」と語ったように、地域経済への波及効果にも熱い視線が注がれていることがわかります。マイクロン社の広島工場が、世界市場でどのような存在感を示すことになるのか、今後の動向から目が離せません。
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